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氢气发生器目前已大量应用在以上工艺中

发布日期: 2020-11-25
浏览人气: 212
   氢气发生器仪器特点:
 
  1. 压力、流量自动显示,自动恒压、恒流,氢气流量可根据用量实现全自动调节。
 
  2. 双支不锈钢过滤器,内有微量氧脱除剂(不需活化),氢气纯度更高;仪器内部采用硅橡胶圈(含硫量低),有效提高气体质量,保证色谱基线平稳。
 
  3. 提供高、低压两种工作模式,可灵活运用在不同状态。
 
  4. 配有安全装置,灵敏可靠,自动防返碱。
 
  氢气发生器可以连续可靠的产生纯度极高的氢气,纯度>99.9999%。从而使昂贵且危险的高压氢气钢瓶彻底告别实验室,整个过程只需去离子水和供电,即可产生氢气,一次加水即可持续工作15天,成本低。氢气发生器的安全、简便性能使其替代了危险的高压氢气钢瓶。氢气根据需要适时适量产生,保持氢气储存体积和安全性。
 
  氢气也可以应用在化学气相沉积(ChemicalVaporDepositon)薄膜生长。化学气相沉积是一种利用固态-气态反应、气态-气态反应生成薄膜的设备,如在CVD工艺中作为还原性气体制备二维材料MOS2、WS2等;等离子增强化学气相沉积(PECVD)工艺中作为还原性气体制备石墨烯、单晶硅、碳化硅等;电子回旋共振化学气相沉积(ECR-CVD)中作为反应气体在单晶硅衬底上制备金刚石薄膜;金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备中作为载气制备光电材料GaN、AlGaN等。同时氢气也可以在原子层沉积(AtomicLayerDeposition)中使用。氢气发生器目前已大量应用在以上工艺中,为半导体材料及器件制备提供好的气源。
 
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